Ein großer Anteil der heutigen industriellen Beschichtungsprozesse wird mit Hilfe der Sputtertechnologie durchgeführt. Hierbei ist es wichtig die Gaszusammensetzung möglichst ohne Beeinflussung durch Einlasssystem zu analysieren. Die spezielle Ionenquelle der Sputterprozessmonitore ist hierfür konzipiert. Ein besonders variables System stellt der HPA dar. Durch Kombinationsmöglichkeiten mit verschiedenen Gaseinlässen lassen sich vielfältigste Anwendungen realisieren.

• Sputterprozessmonitor SPM 200
• Sputterprozessmonitor SPM 400

• High Pressure Analyzer HPA 200

Anwendungen

• Massenbereiche 1-100 amu, 1-200 amu, 1-300 amu 1-512 amu
• On-Line Überwachung von Sputter-Beschichtung und reaktiven Prozessen
• Gasanalyse in Sputterprozessen
• HPA mit einer Vielzahl von Einlasssystemen kombinierbar
• Qualitätssicherung durch in-situ-Überwachung der Vakuumbedingungen und der Prozessgase
• Anwendungen im Druckbereich bis 10 mbar

Kundennutzen

• Für Höchste Prozessausbeute und beste Produktqualität
• Einbaufertige Systeme ohne Aufwand in Anlagen integrierbar
• Direkter Gaseinlass in die Ionenquelle ohne Verfälschung
• Höchste Empfindlichkeit
• Niedrigste Nachweisgrenzen
• Preiswerte, kompakte Lösungen
• Höchste Empfindlichkeit, kleinste Nachweisgrenze, hohe Messgeschwindigkeit
• Quantitative Ergebnisse, Datenausgabe in ppm, %